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苏州市创联净化设备有限公司
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超纯水设备用途：■半导体行业：用于晶元6~12寸切割、清洗、再生、封测用水、半导体设备清洗、电子级无尘布无尘服清洗
超纯水设备用途：
■半导体行业：用于晶元6~12寸切割、清洗、再生、封测用水、半导体设备清洗、电子级无尘布无尘服清洗。
■太阳能光伏行业：单晶硅、多晶硅切片清洗、太阳能电池、石英坩埚、多晶硅方舟、光伏玻璃、高纯硅粉
■LCD、LED、OLED生产清洗用水，光学摄像头清洗，光学材料清洗，导电玻璃清洗； ■半导体集成电路板，线路板生产清洗用超纯水；
■锂电池材料（磷酸铁锂、三元材料、锂电池隔膜）、蓄电池、锌锰电池生产用水
■电子级超纯化学试剂用纯水，纳米级电子陶瓷材料纯水、磁性材料用纯水、有色金属、贵金属冶炼用水、航空新材料生产用水、电容器材料腐蚀化成工艺用水。
超纯水设备参考标准：
电子工业纯水系统设计规范 GB50685-2011
?中国电子级水质技术指标 GB/T11446.1-2013
?电子级水测试方法通则 GB/T 11446.3-2013
?电子级水电阻率的测试方法 GB/T11446.4-2013
?电子级水中痕量金属的原子吸收分光光度测试方法 GB/T114465-2013
?电子级水中痕量阴离子的离子色谱测试方法 GB/T11446.72013
?电子级水中总有机碳的测试方法 GB/T 11446.8-2013
?电子级水中微粒的仪器测试方法 GB/T 11446.9 -2013
?电子级水细菌总数的滤膜培养测试方法 GB/T 11446.10-2013
?美国半导体工业用纯水指标
超纯水设备常用工艺：
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